山东亚世特工业清洗设备有限公司
喷淋塔主要工作原理就是:酸性气体从塔体下方进气口沿切向进入净化塔,在通 风机的动力作用下,郑州单工位旋转喷淋清洗机,迅速充满进气段空间,然后均匀地通过均流段上升到一层填料吸 收段。在填料的表面上,气相中酸性物质与液相中碱性物质发生化学反应。反应生成 物油(多数为可溶性盐类)随吸收液流入下部贮液槽。未全吸收的酸性气体继续上 升进入一层喷淋段。在喷淋段中吸收液从均布的喷嘴高速喷出,形成无数细小雾滴与 气体充分混合、接触、继续发生化学反应。然后酸性气体上升到二层填料段、喷淋段 进行与一层类似的吸收过程。二层与一层喷嘴密度不同,喷液压力不同,吸收酸性气 体浓度范围也有所不同。在喷淋段及填料段两相接触的过程也是材热与传质的过程。 通过控制空塔流速与滞贮时间确保这一过程的充分与稳固。
此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短,对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少,对控制成本及环境保护有利。
随着集成电路制程工艺节点越来越,对实际制造的几个环节也提出了新要求,清洗环节的重要性日益凸显。
清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响,实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率,全自动单工位旋转喷淋清洗机定制,还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗,清洗步骤约占整体步骤的33%。
转动自喷清洗机介绍1.机器设备特性1.1本机器设备依据待洗零件类型多,总数少的特性,选用单工位式清洗、烘干的方法;1.2零件经人力手推式进到清洗室,布局在清洗腔房间内的自喷管对产品工件作大流量自喷,全自动单工位旋转喷淋清洗机,遮盖无盲点;1.3清洗选用持续喷洗式,清洗冲洗力强悍。此方式适用去除空气氧化膜或有机物。由于化合物在单晶硅片表面滞留的時间较为短,对反映必须一定時间的清洗实际效果不太好。在喷洗全过程中所应用的化学药品非常少,对操纵成本费及生态环境保护有益。伴随着集成电路芯片工艺加工工艺连接点愈来愈,对具体生产制造的好多个阶段也明确提出了新规定,清洗阶段的必要性日渐突显。清洗的至关重要则是因为伴随着特点规格的持续变小,半导体材料对杂质成分愈来愈比较敏感,而半导体设备中难以避免会导入一些顆粒、有机物、金属材料和金属氧化物等空气污染物。为了更好地降低杂质对处理芯片合格率的危害,具体生产制造中不仅必须提升 一次的清洗,还必须在基本上所有制性质程前后左右都经常的开展清洗,清洗流程约占总体流程的33%。
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