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顶旭（苏州）微控技术有限公司
主营：微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰
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1、启动曝光：确认参数设定无误后，匀胶机公司，点击启动按钮，河南匀胶机，设备将开始进行曝光。
2、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。
3、曝光完成：曝光结束后，设备会发出提示，匀胶机优势，取出硅片和光刻板。
顶旭微控
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将zhuan业知识与创新思维相结合，为客户提供gao品质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求zhuo越，通过zhuan业、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同开chuang微流控领域的美好未来。
前烘
1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，匀胶机怎么样，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）
曝光
1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）
后烘
将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）
六、显影
将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）
清洗
将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。
检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。
使用方法
该设备操作简单，易于上手，具体操作如下：
一、曝光前准备工作
1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。
二、曝光操作步骤
1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。
2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。
3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。
温馨提示：以上是关于匀胶机优势-顶旭微控技术-河南匀胶机的详细介绍，产品由顶旭（苏州）微控技术有限公司为您提供，如果您对顶旭（苏州）微控技术有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ，您也可以查看更多与生物制品相关的产品！
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第2年
