微弧电子学的研究方向就是在电子回路中设置一个由两极和工作气体或液体组成的气固或气液固界面,通过调控两极之间的电磁场模式,以使固体表面诱发出具有“纳米微束”放电特征的微弧现象,进而实现固体表面物质以“非熔发射”机制逐层剥离,再辅助以两极之间的介质约束,微弧氧化技术,达到对固体材料表面原位改性、纳米尺度逐层剥离、纳米粒径薄膜制备的目的。
微弧氧化的原理
微弧氧化通过让氧与铝结合,使铝合金(轻质但硬度、耐蚀性不足)表面原位生成一层氧化铝陶瓷,微弧氧化技术 参数,使其表面变得质硬且耐蚀,镁合金微弧氧化技术,进而达到了延长材料使用寿命的目的。同时,微弧电子学又是一种新型‘塑形’技术,通过负电性等离子体对材料进行纳米尺度选取剥离,实现以非接触式方式加工出精密零件,具有广阔的应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源
微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响
微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系,而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期,作用在膜层上的能量较低,低电压微弧氧化技术,产生的熔融物颗粒较少,膜层的表面粗糙度较低;随着时间的延长,膜层表面的能量密度逐渐增大,熔融的氧化产物增多,并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下,氧化物冷却凝固,并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中,产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多,从而增大了膜层表面的粗糙度。另外,在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程,因此,若时间足够长,膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。
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