耗材
硅片
硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,SU8模具加工设备报价,是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,SU8模具加工设备性能,通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
匀胶机
调速范围和时间:I档:50~10000转/分,时间0~999s
II档:50~10000转/分,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40W,河南SU8模具加工设备,单相110~240V真空泵抽气速率:>60L/min
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
数显测厚规(千分款)
测量匀胶厚度量程:0~10mm
精度:0.001mm
公差:≤±0.005mm
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。
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