SU8是一种常用的光刻胶,特别适用于微电子和光电子领域。它具有良好的光刻性能,能够实现高精度的微结构制作。SU8的使用方法是通过曝光和显影两个步骤来实现的。在曝光过程中,通过紫外光或深紫外光照射在光刻胶上,使光刻胶在曝光区域发生化学反应,形成硬化的结构。在显影过程中,通过化学溶剂将未曝光的光刻胶溶解掉,从而得到所需的微结构。SU8的光刻性能主要取决于其化学成分和曝光条件。为了获得佳的光刻效果,需要选择合适的曝光条件和化学溶剂,并且在使用过程中需要注意光刻胶的保存和使用条件。
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