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顶旭（苏州）微控技术有限公司
主营：微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰
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纯硅模具介绍纯硅模具是制备高深宽比微通道的理想选择，利用硅的干法刻蚀技术，可以轻松实现深宽比zui高达25:1的微通道结构，而且线条宽度可控制在2微米以上，精度误差仅在±1微米范围内。 然而，硅表面通常具有强烈的亲水性，这可能导致PDMS芯片在脱模时黏附在硅表面，制造过程中的一大挑战。为解决这个问题，通常需要对硅表面进行疏水修饰，使硅表面变得疏水，宁波SU8模具，确保PDMS芯片能够轻松从硅模具上脱离，SU8模具价格，而不受亲水性的干扰（具体疏水解决方案可咨询销售）
PDMS是一种硅橡胶，常用于制作微流体芯片和生物芯片等微流体设备。PDMS具有良好的生物相容性、透明性、耐化学性和机械稳定性，且易于加工和成型。在制作微流体芯片时，首先需要制作PDMS模具，然后使用模具将PDMS材料注入到芯片的结构中，通过热固化将PDMS材料固定在芯片的结构中。PDMS模具的制作通常包括设计、雕刻、和固化等步骤。设计阶段需要确定芯片的结构和尺寸，雕刻阶段需要使用激光或刀具将PDMS材料雕刻成所需的形状，阶段需要将雕刻好的PDMS模具成多个，固化阶段需要将好的PDMS模具通过热固化固定在芯片的结构中。
SU8是一种光刻胶，常用于微电子和光学领域的微结构制造。以下是定制SU8模具的一般步骤：1.设计：首先，需要设计要制造的微结构。这通常需要使用计算机辅助设计软件（CAD）来创建一个3D模型。2.制作掩模：接下来，需要制作一个掩模，该掩模将用于将设计转移到SU8光刻胶上。掩模通常由光刻胶制成，并且具有与设计相同的形状和尺寸。3.涂覆：然后，需要将SU8光刻胶涂覆在基板上。这通常通过旋转涂覆或浸渍涂覆来完成。4.曝光：接下来，需要将掩模放在涂覆了SU8光刻胶的基板上，SU8模具，并使用曝光机将设计转移到光刻胶上。曝光机使用紫外线将光刻胶暴露在光线下，从而使光刻胶在曝光区域固化。5.脱模：曝光后，SU8模具企业，需要将掩模移除，并使用化学溶剂将未曝光的光刻胶洗掉。这将揭示出与设计相同的微结构。6.烘干：，需要将基板放入烘箱中进行烘干，以确保微结构的稳定性。需要注意的是，定制SU8模具需要的步骤和设备，以确保微结构的准确性和稳定性。此外，还需要考虑掩模的制作和曝光的精度，以确保设计的准确。
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第2年
