技术参数
曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;
曝光面积:4英寸、6英寸可选;
曝光方式:单面接触式定时曝光;
曝光分辨率:2um;
曝光强度:20~200mW/cm2可调;
曝光不均匀性:≤5%;
光源平行性:≤2°;
光源寿命:≥20000h;
电源输入:AC220V±10V,50HZ
功率:250W
重量:25kg
外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)
工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累,微流控光刻机价格,持续将专ye知识与创新思维相结合,为客户提供高pin质的解决方案。
脑芯片如何定制使用方法该设备操作简单,易于上手,具体操作如下:
一、曝光前准备工作
1、硅片处理:确保待曝光硅片经过匀胶处理,微流控光刻机优势,表面干净平整,没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板:根据项目需要,选择合适尺寸的光刻板,本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查:仔细检查设备,微流控光刻机,确保所有部件处于正常工作状态,确保操作环境良好。
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顶旭光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。紧随现代技术的步伐,顶旭桌面微型光刻机的问世为微纳加工注入了新的活力,助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。
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微流控光刻机-顶旭微控技术有限公司-微流控光刻机优势由顶旭(苏州)微控技术有限公司提供。顶旭(苏州)微控技术有限公司在生物制品这一领域倾注了诸多的热忱和热情,顶旭一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场,衷心希望能与社会各界合作,共创成功,共创辉煌。相关业务欢迎垂询,联系人:周经理。温馨提示:以上是关于微流控光刻机-顶旭微控技术有限公司-微流控光刻机优势的详细介绍,产品由顶旭(苏州)微控技术有限公司为您提供,如果您对顶旭(苏州)微控技术有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ,您也可以查看更多与生物制品相关的产品!
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