ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究
利用硅酸盐复合电解液体系,微弧氧化电源,在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。
所用的工艺参数为:恒流控制,电流密度3 A/dm^2,微弧氧化电源指标,频率500 Hz,终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析;对膜层的化学成分进行分析;采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。
结果表明:所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。
微弧氧化技术特点
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层为表面多孔(孔径为几微米)、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高(维氏硬度可由几百至三千左右) 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副,摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm,小型微弧氧化电源价格,摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀(按)≥400h ,高频微弧氧化电源,可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
微弧氧化工艺流程
1、预处理
预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中,表面易发生氧化,生成一层几个微米的钝化膜,同时,其表面又极易吸附周围环境中的杂质,形成表面吸附层。为保证微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能,在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。
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