直接成像
DI印刷技术的研发已经有十几年的历史了,早出现的DI印刷机是海德堡公司在Drupa95展览会上推出的Quickmaster46-4DI印刷机,它在当年的Drupa展览会上引起了不小的轰动,对Indigo和 Xeikon公司的数字彩色印刷机的销量有很大的造成了一定的冲击。此後的几年,相继有一些公司加入DI印刷机的市场中,其中包括Adast公司的B2幅面DI印刷机,Quickmaster和Adast印刷机均应用来自Presstek公司的成像技术和印版。後来海德堡公司又在他们的 Speedmaster74印刷机上加入Creo公司的成像头开发出Speedmaster74B2幅面的DI印刷机。刚开始的时候,这款印刷机只能在 Presstek印版上成像,後来Agfa公司为它专门设计了一种Thermolite印版。Karat印刷公司那时还是KBA和Scitex公司的合资企业,推出了利用Scitex成像头的74Karat设备,与他们的Lotem制版机一样,但终是在Presstek印版上成像。
迪盛智能拥有在激光直接成像领域已经沉淀了多年的技术团队,从成立之初我们就决心走稳重持久的发展路线,不仅要做指标达标的设备,还要做的设备,因此我们的团队从相对比较简单的激光晒网机开始研发、制造、改善,经过几年的积累,我们的软件、硬件均取得非凡的成就,数据处理、数据传输、分图、电子控制、控制板卡、激光器、光学镜头等均实现自制或自行设计。
LDI机
LDI曝光速度的瓶颈因素包括:数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。
以基本的影响因素而言,有三个独立的因子会影响曝光速率:
1、能量密度 2、数据调变的速度 3、机械机构速度
光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光,而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间,曝光显影工艺,高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出,主要来自于系统的光源设计,所以这是能量与时间的关系与解析度无关。
曝光显影工艺-江苏迪盛微电子科技由迪盛(武汉)微电子有限公司提供。迪盛(武汉)微电子有限公司坚持“以人为本”的企业理念,拥有一支高素质的员工队伍,力求提供更好的产品和服务回馈社会,并欢迎广大新老客户光临惠顾,真诚合作、共创美好未来。迪盛智能——您可信赖的朋友,公司地址:江苏省苏州市吴中区金山南路868号锐晶大厦B座2楼,联系人:田女士。温馨提示:以上是关于曝光显影工艺-江苏迪盛微电子科技的详细介绍,产品由迪盛(武汉)微电子有限公司为您提供,如果您对迪盛(武汉)微电子有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ,您也可以查看更多与光电子/激光仪器相关的产品!
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