微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响
微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系,而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期,作用在膜层上的能量较低,产生的熔融物颗粒较少,膜层的表面粗糙度较低;随着时间的延长,膜层表面的能量密度逐渐增大,熔融的氧化产物增多,并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下,微弧氧化电源,氧化物冷却凝固,并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中,产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多,微弧氧化电源价格,从而增大了膜层表面的粗糙度。另外,在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程,因此,若时间足够长,微弧氧化电源原理,膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。
与普通的阳极氧化膜相比, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,与基质结合紧密, 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良,与基体结合牢固, 且工艺简单,对环境污染小, 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究, 在工业上得到了一定的应用, 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。
微弧氧化除了所需电功率较大之外,微弧氧化工艺实际上并不算复杂,所使用的gui酸盐、磷酸盐、硼酸盐等电解质是环保无毒的,微弧氧化电源使用方法,对铝材的要求也不高,不管是 6000系的航空级铝材,还是难以阳极氧化的含铜、含gui铝材都可以进行微弧氧化,并且能得到理想的陶瓷结晶层。微弧氧化在处理过程中会自动对制品表面进行抛光处理,一些粗糙的制品表面可以修复得平整光滑,在一定程度上也节省了后期成本。
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