工业废水处理设备是一种成型设备,可以根据企业的实际现场条件进行处理,并且可以直接放置在硬化的地面上,而无需土建。在空间上带来巨大的优势。 工业废水处理设备的整个系统由九部分组成,由PCL控制,然后可以达到自动处理,也可以将水的正常处理减少到高峰和低谷阶段。 工业废水处理设备的特点:整套设备可以埋在地下,不占地; 顶部可以美化。 净化度高,整个系统污泥少; 自动化程度高,能耗低,处理方便,人员少。 产生的噪音低,气味小,并且对周围环境的影响小。
半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。
为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。
对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。
因电子半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,废水处理设备厂家,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。
半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。
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