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微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比， 这种膜的空隙率大大降低，从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 Lm以上， 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。
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微弧氧化技术的优势
1．微弧氧化工艺稳定且可靠，设备简单，反应在常温下进行，操作方便，易于掌握。
2．微弧氧化膜有良好的耐磨损性能。
3．微弧氧化膜有良好的耐热性及抗腐蚀性。这从根本上克服了铝、镁、钛合金材料在应用中的缺点，因此该技术有广阔的应用前景。
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阳极氧化膜层与微弧氧化膜层的区别是什么？
由微弧氧化膜层的生长机理可知，微弧氧化电源，阳极氧化是微弧氧化的初级阶段。阳极氧化发生的是化学反应，微弧氧化电源如何控制，而微弧氧化除化学反应外，还伴随有电化学、高温等离子体等反应。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），销售微弧氧化电源，膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。另外，膜层为氧化物瞬间冷凝形成，微弧氧化电源效率，具有较高的致密度和硬度以及良好的耐腐蚀性能，良好的绝缘性等。但归跟到底，微弧氧化膜层与阳极氧化膜层醉的的差别在于：膜与基体的结合力，膜层内部致密性及相结构。这几种差别引起了微弧氧化膜层与阳极氧化膜层其它方面的性能差异。
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第7年
