北京ICP光谱分析仪厂家「在线咨询」

钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统

仪器采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。

优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。

光源

固态射频发生器，稳定，体积小巧，匹配速度快

冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。

简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时监控仪器运行参数，ICP光谱分析仪厂家，CAN工业现场总线，保障通讯可靠。

进样系统

简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。

ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。

检测器

大面积背照式CCD检测器，全谱段响应，高紫外量化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范

围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。

ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，像素，单像素面积24μm X 24μm，三级半导体制冷，制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。

软件系统

人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。

丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。

安全防护

电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗

钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分析性能

检 出 限：亚 ppb- ppb 短期稳定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 长期稳定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固态射频发生器，功率连续 1 瓦可调 震荡频率：27.12MHz

输出功率：700W-1600W 功率稳定性：< 0.1%

仪器规格

尺寸：宽 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：约 180kg

光学系统

分析谱线范围：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒温：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

单像素面积：24μm x 24μm

工作环境

实验室湿度环境：相对湿度 20%~80% 氩气纯度：不小于 99.95%

排  风：不小于 400 立方米 / 小时

电  源：200V~240V AC 单相；50Hz~60Hz；4kVA

钢研纳克Plasma 1000 单道扫描ICP光谱仪仪器特点

1.   分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能；

2.   输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定；      

3.   优良的光学系统，的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良；

4.   较小的基体效应；      

5.   测量范围宽，超微量到常量的分析，动态线性范围5—6个数量级；

6.   检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级；

7.   良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%（5ppm），优于国家A等级标准（JJG768-2005）；

8.  

Rf输出功率的范围750-1500W，输出功率稳定性小于0.1%；

9.   光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调，可根据不同元素的不同谱线单独设置条件，和全谱仪器比较有更好的检出限；

10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全；

11. 精度较高的光室恒温系统，保证仪器优良的长短期精度；

12. 多通道蠕动泵进样，保证仪器进样均匀，工作稳定；

13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃，在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m（JJG768-2005规定小于10V/m）。

14. 具有较高的谱线分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线，能分出铁的四重峰。

15. 人性化的软件设计，操作方便，终身免费升级。功能强大、友好的人机界面分析软件，可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得的背景扣除点以消除干扰；对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。