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简述
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,昆山真空膜生产,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
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真空镀膜应用
目前有多种金属可用作蒸镀金属的原材料,但是在包装技术领域中用得广、普遍、且有实用经济价值的应首推铝(具有高纯度的铝材)在直接真空蒸镀法中的金属镀层厚度一般为0. 007一0. 008mm 。
近已开发的新一代的转移法真空镀金属法中所蒸镀的金属厚度只有前者(直接法)的1/500左右(约为0. 000015mm )。过去国外以及目前国内大部采用直接法进行真空镀金属工艺,其缺点是耗金属量相对较多;对基材的平整度和光洁度的要求也特别高;特别是制造所谓“镀铝纸”时,除对作为基材的纸张要求具有极1佳的平整、光洁度外,因纸含水量较多(10%左右),在高真空和较高温度下易失水变脆,昆山真空膜价格,使工艺更加复杂,产品成本也相应提高。
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真空镀膜特点
编辑镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点:(1)大大减少了用铝量,昆山真空膜,节省了能源和材料,降低了成本,复合用铝箔厚度多为7~9pm,而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05n左右,其耗铝量约为铝箔的1/140~1/180,真空膜,且生产速度可高达450m/min。(2)具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现和裂口,无揉曲龟裂现象,因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。
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