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0世纪以来,集成电路产业发展迅速,MOS器件是集成电路的重要元器件,需求量持续增大。MOS,是MOSFET的缩写,是金属-氧化物半导体场效应晶体管,具有输入阻抗高、稳定性好、噪声小等优点,是重要的功率分立器件之一,在通信、电子、家电、汽车、物联网、车联网等领域应用广泛。随着半导体工艺制程进入纳米阶段,围栅硅纳米线MOS器件成为关注重点。
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MOS管是利用VGS去控制“感应电荷”的多少,由此去改变由这些“感应电荷”所形成的导电沟道的状况,3080mos,以此来控制漏极电流。在管子制造时,通过一些特殊工艺使得绝缘层出现大量的正离子,所以在交界面另一侧可以感测出比较多的负电荷,高渗杂质的N区被这些负电荷接通,导电沟道也就形成了,即便在VGS为0时也会有比较大的漏极电流ID。如果栅极电压发生改变时,沟道里的被感应电荷量也会发生改变,导电沟道中的宽窄也会随着改变,因此漏极电流ID会伴随着栅极电压的变化而发生变化。
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场效应管有两大类型:N沟道和P沟道。在功率系统中,场效应管可被看成电气开关。当在n沟道场效应管的栅极和源极间加上正电压时,其开关导通。导通时,3080mos公司,电流可经开关从漏极流向源极。漏极和源极之间存在一个内阻,称为导通电阻RDS(ON)。必须清楚场效应管的栅极是个高阻抗端,因此,总是要在栅极加上一个电压。如果栅极为悬空,器件将不能按设计意图工作,并可能在不恰当的时刻导通或关闭,导致系统产生潜在的功率损耗。当源极和栅极间的电压为零时,开关关闭,而电流停止通过器件。虽然这时器件已经关闭,但仍然有微小电流存在,这称之为漏电流,即IDSS。
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