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微弧氧化膜具有特殊的多孔质结构，使得它在金属材料功能化方面有着巨大的应用潜力，如在微弧氧化膜的细孔中填充润滑性物质，可以作为性能优良的减摩抗磨材料。影响微弧氧化膜生长和性能的因素很多，微弧氧化电源指标，有待于系统而深入地研究，以弄清楚各因素对膜性能的影响规律，微弧氧化电源使用方法，使得不同性能要求下的微弧氧化工艺更具有可重现性。 微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线
微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比， 这种膜的空隙率大大降低，微弧氧化电源厂商，从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 Lm以上， 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。
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微弧电子学的研究方向就是在电子回路中设置一个由两极和工作气体或液体组成的气固或气液固界面，通过调控两极之间的电磁场模式，微弧氧化电源，以使固体表面诱发出具有“纳米微束”放电特征的微弧现象，进而实现固体表面物质以“非熔发射”机制逐层剥离，再辅助以两极之间的介质约束，达到对固体材料表面原位改性、纳米尺度逐层剥离、纳米粒径薄膜制备的目的。
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第7年
