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沈阳东创贵金属材料有限公司
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为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布：通常靶材为多晶结构，纯银导电辊哪家好，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。
磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，纯银导电辊厂家，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用。使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，纯银导电辊加工，多弧镀靶源，纯银导电辊，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。
近十余年来，有关在镍基单晶高温合金上制备Pt改性铝化物涂层的研究已被广泛报道。但铂影响恒温氧化、循环氧化和抗热腐蚀性的具体机制及铂在涂层中的互扩散行为还有待进一步研究。文献采用电化学方法研究了在金属钨、钛、铼、锆及不锈钢和非金属玻碳等基体上电镀铂的初期形核阶段，发现Re基体不适宜电镀铂。
第三代及之后的镍基单晶高温合金含有Re达6 wt.%，且含有较多的Al和其它活泼性高的金属元素，这些元素在强酸性的电镀Pt液中易腐蚀，会影响铂镀层结合力和厚度均匀性。
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第9年
