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迪盛（武汉）微电子有限公司
主营：直接成像（LDI）,激光曝光机,激光晒网机
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DI直接成像曝光机
1、技术优势：
所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序，使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组，此系统将高清晰度的影像转移至感光基材，根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI，光学头在板材上方连续移动曝光，LDI直接成像，高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。
2、耗电低：
待机时只需消耗350W，直接成像，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。
印刷晒版的操作步骤及工艺流程
曝光机也是晒版机，只是叫法不同。
晒版的工艺流程为：制备感光版-装版-曝光-显影-检查-修正-烤版-提墨-擦胶
制备感光版：制备过程包括配置感光液、版基表面处理、涂布干燥三步。PS版感光液主要由感光剂（重氮类）、成膜剂（合成树脂类）和有i机溶剂组成。
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晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤
晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。
（1）晒版机对光源的要求：首先应根据PS版的感光特性来选择光源，PS版的感光范围一般在280-450nm，直接成像印刷机，因粘贴胶片的片基和晒版机玻璃对320nm波长以下的光具有较强烈的吸收作用。因此320nm以下波长的光对PS版感光层起不到感光效能，感光性能较好的PS版将感光范围定在320-450nm波长范围内；碘jia灯是当今通用且的光源，其波长分布在350-450nm范围内，对多数晒版感光层有效。这种光源有较强的辐射热，因此晒版机应具备良好的散热装置。
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第8年
