溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。
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导电橡胶能够提供较高的打印密度。但导电橡胶的导电率是如此之高,以致其不能对色粉充电至较高程度。当仅仅将由金属氧化物组成的无机填料(D)作为填料与橡胶组分(A)混合时,导电橡胶能够得到降低色粉的物理粘附力的效果,银圆柱靶,但是不能将色粉充电至较高程度,因此不能提供足够的打印密度。如上所述,在独立地将填料(B)至(D)与橡胶组分(A)混和时,必须大量使用填料。
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